集成電路作為信息技術產(chǎn)業(yè)的核心基石，簡稱芯片，是支撐電子信息產(chǎn)業(yè)迭代、民生消費升級、航空航天建設及國防安全保障的核心微機械單元，深度賦能云計算、物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)、5G通信、工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)等新興領域高質(zhì)量發(fā)展。當前，集成電路產(chǎn)業(yè)已被我國列為核心戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)，其發(fā)展水平更是衡量國家科技綜合實力與社會信息化發(fā)展進程的核心標桿。為推動產(chǎn)業(yè)提質(zhì)增效、夯實產(chǎn)業(yè)鏈自主可控根基，國家先后出臺系列專項扶持政策，2019年財稅部門優(yōu)化集成電路設計企業(yè)所得稅減免政策，2020年國務院從財稅、研發(fā)、人才、知識產(chǎn)權(quán)等八大維度出臺配套舉措，全方位護航集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新進階，行業(yè)高質(zhì)量發(fā)展態(tài)勢持續(xù)深化。

　　集成電路芯片制程工藝精細度高，晶圓制造、芯片蝕刻、精密封裝等全生產(chǎn)流程，均需超高純度水質(zhì)完成核心器件清洗作業(yè)，水質(zhì)潔凈度直接決定芯片成品良率與運行穩(wěn)定性，超純水已然成為芯片制造不可或缺的核心生產(chǎn)介質(zhì)。傳統(tǒng)超純水制取主要依托蒸餾法與離子交換法兩類工藝，實際應用短板尤為突出。其中蒸餾法對設備密閉性要求嚴苛，不僅產(chǎn)能偏低、能耗居高不下，規(guī)?；慨a(chǎn)適配性差;離子交換法需頻繁借助酸堿溶液再生失效樹脂，配套耗水量大、人工運維強度高，且水質(zhì)純度難以管控。隨著集成電路制程不斷升級，行業(yè)超純水品質(zhì)閾值持續(xù)提升，傳統(tǒng)制水工藝已無法滿足高端芯片生產(chǎn)的嚴苛水質(zhì)標準，行業(yè)亟需高效穩(wěn)定、節(jié)能環(huán)保的新型超純水制備解決方案。

　　針對集成電路產(chǎn)業(yè)超純水制備核心痛點，萊特萊德深耕水處理領域研發(fā)創(chuàng)新，打造專業(yè)EDI超純水設備，為芯片生產(chǎn)全流程穩(wěn)定供水注入強勁“芯”動力。該設備摒棄傳統(tǒng)工藝固有弊端，依托成熟EDI核心技術，可全天候連續(xù)穩(wěn)定制備高等級超純水，無需樹脂停機再生作業(yè)，全程生產(chǎn)不間斷，完美適配集成電路企業(yè)規(guī)模化連續(xù)生產(chǎn)節(jié)奏。設備一體化緊湊結(jié)構(gòu)設計，占地面積大幅縮減，有效節(jié)約企業(yè)廠區(qū)空間資源，助力企業(yè)優(yōu)化生產(chǎn)布局、降低場地運營成本。所有設備出廠前均經(jīng)過嚴格試壓檢測，硬件品質(zhì)嚴苛把控，運行故障發(fā)生率低，日常運維保養(yǎng)與檢修操作簡便快捷，大幅降低企業(yè)后期運維人力與資金投入。

　　在水質(zhì)保障核心層面，萊特萊德EDI超純水設備內(nèi)置反滲透預脫鹽核心系統(tǒng)，雙重凈水處理架構(gòu)從源頭精準過濾水中各類雜質(zhì)、離子及污染物，深層次夯實出水水質(zhì)穩(wěn)定性與純凈度。該設備綜合性能行業(yè)領先，具備脫鹽率高、抗污染能力強、節(jié)能環(huán)保降耗、系統(tǒng)無死水滯留、產(chǎn)水水質(zhì)持續(xù)穩(wěn)定等多重核心優(yōu)勢，出水水質(zhì)全面達標美國ASTM D5127電子及半導體業(yè)專用純水TypeE-1.2等級，指標優(yōu)于我國電子級超純水GB/T11446.1-1997 EW-Ⅰ國家級標準。

　　當前，集成電路作為5G、人工智能、新能源等新興產(chǎn)業(yè)的技術核心，市場發(fā)展?jié)摿薮?，長期前景廣闊。萊特萊德EDI超純水設備以硬核技術實力、穩(wěn)定運行性能、高標準產(chǎn)水品質(zhì)，精準匹配集成電路產(chǎn)業(yè)高端生產(chǎn)用水需求，持續(xù)為我國芯片產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展、產(chǎn)業(yè)鏈自主可控筑牢水質(zhì)保障防線，助力集成電路產(chǎn)業(yè)持續(xù)突破技術壁壘，穩(wěn)步提升核心市場競爭力。