
萊特萊德公司結合膜分離技術,采用反滲透結合EDI裝置和精混床的工藝制備超純水,其出水電阻率可達18MΩ·cm(25℃),有助于中國“芯”的發展。...

超純水設備采用反滲透工藝,或采用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床生產超純水,以確保出水水質符合行業標準,滿足芯片行業用水需求。...

超純水設備制備出的高品質超純水才能幫助芯片提高產品品質,從而幫助芯片更好地應用到有需要的領域中。...

超純水處理設備采用積木式結構,可依據場地的高度和靈活地構造。模塊化的設計,使EDI在生產工作時能方便維護。...

萊特萊德超純水設備結合膜分離技術,采用反滲透、EDI裝置結合混床模塊化設計工藝來制備超純水,其出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃),符合芯片制造用水要求。...

萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2,高于我國國家電子級超純水標準。...

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